Eisenbasiert

Eisenbasiertes Pulver ist ein Rohstoff für Legierungspulver, dessen Hauptbestandteil Eisen ist. Es findet breite Anwendung in den Bereichen mechanische Bauteile, 3C-Produkte, poröse Materialien, Werkzeugwerkstoffe, magnetische Materialien, Abschirmmaterialien, Oberflächenbeschichtungen usw. Es ist der Rohstoff der Pulvermetallurgie mit einem hohen Einsatzanteil und zeichnet sich durch ein gutes Kosten-Leistungs-Verhältnis aus.

Elektrolytisches Kupferpulver · dendritisches hochreines Kupferpulver
Elektrolytische Herstellung · Hohe spezifische Oberfläche · Spezialität für Pulvermetallurgie und Ölschmierlager -300 Mesh / -500 Mesh / -600 Mesh

Elektrolytisches Kupferpulver wird durch ein elektrolytisches Raffinationsverfahren hergestellt; es weist eine dendritische Morphologie auf, einen Kupfergehalt von mindestens 99,8 % sowie einen Sauerstoffgehalt von höchstens 0,1 % und zeichnet sich durch eine hohe spezifische Oberfläche, eine ausgezeichnete Pressfestigkeit sowie eine hohe Sinteraktivität aus. Die Partikelgrößen reichen von -300 Mesh über -500 Mesh bis -600 Mesh (D50: 1–50 μm einstellbar), wobei die Chargenstabilität gewährleistet ist. Das Produkt findet breite Anwendung in der Pulvermetallurgie – etwa bei ölbefüllten Lagern, kupferbasierten Reibmaterialien, Diamantwerkzeugen, chemischen Katalysatoren sowie leitfähigen Materialien. Die elektrolytische Herstellung garantiert eine ultrahohe Reinheit und eine kontrollierbare dendritische Struktur und stellt damit einen idealen Rohstoff für das Press‑Sinter‑Verfahren dar.

Kernvorteile von elektrolytischem Kupferpulver

Ultrapure Qualität

Kupfergehalt ≥ 99,8 %, Gesamtgehalt an Verunreinigungen ≤ 0,2 %; die wichtigsten Verunreinigungen wie Fe, Pb und Zn werden auf ppm‑Ebene kontrolliert, um die elektrische Leitfähigkeit sowie die katalytischen Eigenschaften sicherzustellen.

Zweigförmige Morphologie · Hohe spezifische Oberfläche

Die durch Elektrolyse erzeugte einzigartige dendritische Struktur weist eine hohe spezifische Oberfläche, eine hohe Pressfestigkeit sowie eine hervorragende Sinteraktivität auf.

Niedriger Sauerstoffgehalt

Sauerstoffgehalt ≤ 0,1 %; hervorragende Oxidationsbeständigkeit; bei längerer Lagerung kaum oxidierbar, was eine stabile Sinter‑ und Leitfähigkeit gewährleistet.

Die Korngröße ist flexibel einstellbar.

Standardkorngrößen: -300 Mesh, -500 Mesh, -600 Mesh; D50‑Bereich 1–50 µm; kundenspezifische Klassifizierung sowie enge Partikelgrößenverteilungen sind möglich.

Produktfotos & Mikrostruktur

SEM-Aufnahme von verzweigtem elektrolytischem Kupferpulver

Typische dendritische Morphologie, große spezifische Oberfläche, starke mechanische Verzahnung

Hochmagnifiziertes dendritisches Strukturmerkmal

Feinkristalline Struktur, hohe Sinteraktivität und hervorragende Presslingfestigkeit.

Echtaufnahmen des Pulvers

Rosenrotes Pulver, vakuumverpackt, Chargenrückverfolgbarkeit gewährleistet

Elektrolytkupferpulver: verzweigtes hochreines Kupferpulver

Elektrolytkupferpulver wird mittels Elektrolyt‑Raffinationsverfahren hergestellt; durch die Regelung der Stromdichte und der Zusammensetzung der Elektrolytlösung entsteht eine charakteristische, verzweigte Morphologie. Diese Morphologie weist eine äußerst hohe spezifische Oberfläche auf, ermöglicht eine starke mechanische Verzahnung zwischen den Pulverteilchen, sorgt nach dem Pressen für eine hohe Rohlingfestigkeit und zeichnet sich durch hervorragende Sinteraktivität aus, sodass bereits bei niedrigen Temperaturen eine gute Verdichtung erreicht werden kann. TIJO‑Elektrolytkupferpulver verfügt über einen Kupfergehalt von mindestens 99,8 %, einen Sauerstoffgehalt von höchstens 0,1 % sowie extrem niedrige Gehalte an Verunreinigungen wie Fe, Pb, Zn, As, Sb usw. (entsprechend der Norm GB/T 5246). Übliche Korngrößen sind -300 Mesh (≤48 μm), -500 Mesh (≤25 μm) und -600 Mesh (≤23 μm); das Produkt eignet sich für die Pulvermetallurgie, etwa für ölbefüllte Lager, kupferbasierte Reibmaterialien, Diamantwerkzeuge, Kohlebürsten, elektrische Kontakte sowie chemische Katalysatoren. Die Produkte weisen eine hohe Chargenkonstanz auf und bieten die Möglichkeit einer kundenspezifischen Korngrößenanpassung.

Chemische Zusammensetzung (Gewichtsprozent, Standard GB/T 5246)

Element Kupfer (%) Verunreinigungsgehalt (ppm, höchstens)
Indikator ≥99,8
Fe 100
Blei 400
Zink 40
Als 40
Sb 50
Bi 20
Ni 30
Schnorchel 40
S 40
Cl⁻ 40
H₂O 400
Nitratunlösliche Bestandteile 500
Summe 2000

* Der Sauerstoffgehalt beträgt ≤ 0,1 % und kann durch Reduktionsbehandlung weiter gesenkt werden. Alle Verunreinigungen entsprechen der Norm GB/T 5246-2016 für elektrolytisches Kupferpulver.

Hauptangebot: Korngrößen‑Spezifikationen und physikalische Eigenschaften

Partikelgrößenspezifikation Entsprechende Maschenzahl D50-Bereich (μm) Schüttdichte (g/cm³) Schüttdichte (g/cm³) Fließfähigkeit (s/50 g) Typische Anwendungen
-300 Mesh ≤48 μm 20-45 1,8–2,5 2,5–3,5 ≤35 Ölschmierlager, Pulvermetallurgische Strukturteile, Diamantwerkzeuge
-500 Mesh ≤25 μm 10-20 1,5–2,2 2,2–3,0 ≤38 Feinpartikel-Pulvermetallurgie, Kohlebürsten, leitfähige Materialien, Katalysatoren
-600 Mesh ≤23 μm 8-15 1,4–2,0 2,0–2,8 ≤40 Ultrafeine ölhaltige Lager, Reibmaterialien, Katalysatoren mit hoher spezifischer Oberfläche

* Die verzweigte Morphologie führt zu einer geringeren Schüttdichte, jedoch zu einer hohen Presslingfestigkeit. Auf Wunsch kann individuell angepasst werden.

Parameterfeld Wert Anmerkung
Dichte (theoretisch) 8,92 g/cm³ Die Dichte des Sinterteils kann 8,5–8,8 g/cm³ erreichen.
Schmelzpunkt 1083℃
Siedepunkt 2595℃
Elektrische Leitfähigkeit (glühzustand) ≈58 MS/m (100 % IACS) Hervorragende Leitfähigkeit
Wärmeleitfähigkeit (20 °C) ≈401 W/(m·K) Hervorragende Wärmeleitfähigkeit

Astförmiges elektrolytisches Kupferpulver vs. atomisiertes kugelförmiges Kupferpulver

Leistungsdimension baumförmiges elektrolytisches Kupferpulver (TIJO) Vernebeltes kugelförmiges Kupferpulver
Erscheinungsbild Zweigförmig/irregulär, mit großer spezifischer Oberfläche Kugelförmig, glatte Oberfläche
Schüttdichte Geringer (1,5–2,5 g/cm³) Hoch (3,0–4,5 g/cm³)
Presslingfestigkeit Hoch (mechanische Verriegelung) Niedrig
Sinteraktivität Hoch Mittelgroß
Formdruck Niedrig, leicht zu unterdrücken Erfordert einen höheren Druck
Empfohlene Anwendungen Pulvermetallurgie, ölbefüllte Lager, Reibmaterialien Leitfähige Pasten, 3D-Druck, Thermospritzen

Astförmiges elektrolytisches Kupferpulver verfügt über einzigartige Vorteile hinsichtlich der Pressformgebung und der Sinter‑Densifizierung und ist das bevorzugte Kupferpulver für herkömmliche Pulvermetallurgieverfahren.

Empfehlungen und Parameter zur Verarbeitung

Kunsthandwerk Empfohlene Korngröße Schlüsselparameter Typische Produktleistung
Pressen und Sintern von Öllagern -300 Mesh Pressdruck 200–350 MPa, Sintern bei 800–900 °C, reduzierende Atmosphäre Ölgehalt 18–22 %, Zerkleinerungsfestigkeit ≥ 200 MPa
Diamantwerkzeug -300 Mesh/-500 Mesh Mit Diamant und Bindemittel gemischt, heißpressverdichtet. Härte des Rohlings HRB 80–100, hohe Biegefestigkeit
Pulvermetallurgische Strukturteile -300 Mesh Pressen bei 400–600 MPa, Sintern bei 850–950 °C Dichte ≥ 7,8 g/cm³, hervorragende elektrische Leitfähigkeit

TIJO bietet technische Prozessunterstützung und Musterprüfungen an und unterstützt Kunden dabei, schnell eine stabile Produktion zu erreichen.

Typische Anwendungsbereiche

Pulvermetallurgie

Ölschmierlager, kupferbasierte Reibmaterialien, elektrische Kontakte, Kohlebürsten, pulvermetallurgische Strukturbauteile

Diamantwerkzeug

Diamant-Schneidköpfe, Schleifscheiben, Bandsägen und Bohrkrone‑Werkstoffe

Chemische Katalyse

Katalysatorträger, Methanolsynthesekatalysator, chemischer Reaktionszusatzstoff

Elektronische Industrie

Leitfähige Pasten, elektromagnetische Abschirmmaterialien, Füllstoffe für leitfähige Klebstoffe

Automobilindustrie

Bremsbeläge, Kupplungsscheiben, Reibmaterialien

Thermisches Management

Wärmeleitende Füllstoffe, wärmeableitende Beschichtungen

Umfassende Prüfkapazität über den gesamten Prozess hinweg

Laser-Partikelgrößenanalysator Sauerstoff-Stickstoff-Wasserstoff-Analysator Rasterelektronenmikroskop (SEM+EDS) Kohlenstoff-Schwefel-Analysator Hall-Strömungsgeschwindigkeitsmesser/Schüttdichtemesser ICP-OES‑Kompositionsanalyse

Jede Charge elektrolytisch gewonnenen Kupferpulvers wird hinsichtlich des Kupfergehalts, der wichtigsten Verunreinigungen, der Partikelgrößenverteilung, des Sauerstoffgehalts sowie der Schütt‑ und Schüttdichte geprüft. Es liegt ein COA‑Bericht vor, der den Anforderungen der Norm GB/T 5246 entspricht.

Verpackung & Lieferung

 

Pulververpackung

Doppelwandiger Aluminiumfolienbeutel, vakuumversiegelt + Eisen- oder Kunststoffbehälter
Verpackungsgrößen: 1 kg, 5 kg, 20 kg, 50 kg

 

Lieferzeit

Ständig vorrätig; Versand innerhalb von 2–5 Tagen nach Bestellbestätigung.
Kundenspezifische Korngröße oder spezielle Fraktionierung: 7–12 Tage

 

Chargenrückverfolgung

Pro Charge wird eine Probe zurückgehalten; das COA‑Protokoll liegt dem Versand bei.
Qualitätsdokumente sind verfügbar.

 

Kostenlose Muster

Bereitstellung von Proben zur Validierung in den Bereichen Pulvermetallurgie, Ölschmierlager und Diamantwerkzeuge.

 

Maßgeschneiderter Service

Korngrößenanpassung

 

Technischer Support

Vorschläge unterbreiten
Unterstützung bei der Lösung von Kundenproblemen

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E-mail: sales01@hntijo.com

Adresse: Unit 301, Gebäude 39, Liandong U-Valley Industrial Park, Bezirk Yuelu, Stadt Changsha, Provinz Hunan

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